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深硅刻蚀真空镀膜_磁控溅射_材料刻蚀_紫外光刻-广东省科学院半导体研究所
手机:15018420573
邮箱:zengzhaohui@gdisit.com
单位电话:020-61086425/8010
地址:广州市天河区长兴路363号
设备名称:激光直写光刻机
设备型号:MiScan 200
设备厂商:苏州苏大维格光电
工作原理:根据计算机图形数据文件,对光刻胶等近紫外感光材料进行直写曝光或在其他光刻基板上进行图形化直写。
技术指标:
1.LD 固体激光器 405nm±10nm波长
2. 样品尺寸:8英寸及以下,支持规则或不规则形状的基底; 包括 Si、SiN、GaAs、InP、SiC 等透明、半透明、不透明基底
3. 分辨率>600nm ,采用空间光调制器频闪扫描曝光/ 连续光曝光
4.可支持厚光刻胶曝光、支持二次重复对准曝光。
5.支持文件格式:GDSII、BMP
面向国内外科研机构和企业提供全方位的开放服务
将对半导体材料与器件的深入研发给予全方位支持
为广大客户提供高品质服务
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