设备名称：光刻机

设备型号：ABM/6/350/NUV/DCCD/M 

设备厂商：美国ABM公司

用途：光刻胶的图形化

工作原理：将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上。

技术指标：

1.紫外光波长：365nm，曝光能量密度18-20mW/cm2可调

2. 样品尺寸：6英寸及以下

3. 分辨率：接触曝光＜0.5μm，接近式曝光≤1μm

4.对准精度:＜1μm