设备名称:磁控溅射台
设备型号:Kurt PVD75Pro-Line
工作原理:高能粒子撞击具有高纯度的靶材固定平板,通过物理过程轰击出原子,这些被撞击出的原子穿过真空,最后淀积在样品表面。
用途:溅射Ti、Al、Ni、Cr、Pt、Cu、Ti、W、Pd、等金属薄膜,
溅射AlN、ITO、SiN、SiO2、TiO2、ZnO、IGZO等化合物材料。
技术指标:
1. 样品尺寸:5*2英寸、1*4英寸、1*6英寸
2. 基板加热温度: 室温-350℃可调,控温精度1℃
3.配备四台溅射靶枪,其中一个靶枪支持强磁性材料
4. 300W射频电源,2kW 直流脉冲电源,带有等离子清洗功能
5. 蒸发均匀性:2英寸范围内<±3% ;6英寸范围内±5%
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