设备名称：ITO电子束蒸发台

设备型号：Peva-600I

设备厂商：台湾聚昌

工作原理：电子束斑聚焦到介质材料表面，使局部达到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，同时增加离子源辅助沉积，实现高密度、高折射率的光学薄膜。

用途：蒸发透明导电薄膜ITO

技术指标：

1.样品尺寸：102*2英寸、21*4英寸、12*6英寸

2.基底刻蚀温度： 室温-350℃可调，控温精度1℃

3.极限真空：2×10-7 torr

4.  蒸发均匀性：<±5%